Αναζήτηση στην κοινότητα

Καλησπέρα, είμαι φοιτητής στο πολυτεχνείο και προσπαθώ να διαστασιολογήσω ένα τοίχωμα από Ω.Σ. στο χέρι. Έχω διαστασιολογήσει τους καθ' ύψος οπλισμούς των κρυφών υποστυλωμάτων με αξονική: Neff=(2/3)*(MEd/z+NEd/2) όπου έχω λάβει z=0.8*lw. Στους συνδετήρες όμως του κρυφού, με πιάνουν τα μέγιστα του κανονισμού (6dbL για ΚΠΥ) και μου βγαίνουν πολύ πυκνοί συνδετήρες. Κατ' επέκταση, μου βγαίνει τεράστια παρεχόμενη περίσφιγξη και όταν πάω να κάνω τον έλεγχο παραμορφώσεων του EC8 στην οριακή καμπυλότητα φu: xu = (νd+ωv)*lw*b*b0 για να ελέγξω ότι σε ανηγμένες παραμορφώσεις > 3,5/1000 υπάρχει το περισφιγμένο κρυφό, μου βγαίνει ότι το lc του κρυφού πρέπει να είναι πολύ μεγάλο (πιο πολύ από το μισό lw!!!)-> μη ρεαλιστικό. Οπότε ρωτάω αν μπορεί κάποιος να με βοηθήσει αφενός, για το αν η Neff που έλαβα ως αξονική του κρυφού είναι η σωστή, αφετέρου για το τι μπορεί να έχει πάει στραβά με τον έλεγχο του xu και το μήκος του κρυφού lc. Σε μια επίλυση που έχω δει με ΕΚΩΣ δε γίνεται ο έλεγχος αυτός, αλλά με τον EC8 και με τη μεγάλη περίσφιγξη που έχω υπολογίσει, η εcu2,c=0.0035+0.1*α*ωωd εκτοξεύεται (γενικώς αυτό θέλω) αλλά μαζί της εκτοξεύεται το xu και άρα το απαιτούμενο μήκος του κρυφού lc. Συγγνώμη για το τεράστιο post αλλά το παλεύω και δεν ξέρω τι πάει στραβά. Επισυνάπτω και μια εικόνα του EC8 από τον έλεγχο που αναφέρω. Ευχαριστώ προκαταβολικά! wall.bmp